Diamonds; Hydrocarbons; Thin films; Plasmas(Physics); Chemical analysis; Emissionspectra; Emission spectroscopy; Films; Gradients; Hydrogen; Ionization; Langmuir probes; Lasers; Nonuniform; Plasma diagnostics; Polycrystalline; Probes; Substrates; Surface;
机译:等离子体功率和沉积压力对等离子体增强化学气相沉积法沉积低介电常数等离子体聚合环己烷薄膜性能的影响
机译:沉积温度对以六方六方碳氢化合物为单体的等离子体增强CVD沉积聚合物薄膜性能的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积和等离子体浸没离子注入和沉积获得的非晶态碳质薄膜的光学,机械和表面特性
机译:等离子体功率和沉积压力对等离子体增强化学气相沉积沉积的低介电常数等离子体聚合环己烷薄膜的影响
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积和等离子体浸没离子注入和沉积获得的非晶态碳质薄膜的光学,机械和表面特性
机译:用电弧喷射等离子体沉积金刚石薄膜及等离子体表面区域诊断测量的最新结果