机译:新型脉冲电子沉积技术沉积La1.85Sr0.15CuO4和Nd1.85Ce0.15CuO4超导膜的不同参数
La1.85Sr0.15CuO4 and Nd1.85Ce0.15CuO4; high-Tc superconductor films; pulsed electron deposition technique; deposition parameters; BEAM ABLATION; THIN-FILMS;
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