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Vacancy-hydrogen complexes in group-IV semiconductors

机译:IV族半导体中的空位氢络合物

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摘要

Hydrogen-related defects in proton-implanted crystalline Ge and 6H-SiC are studied with IR spectroscopy. Absorption lines at 1979.5, 1992.6, 2014.9, 2024.8 and 2061.5 cm~(-1) in Ge : H are identified as Ge-H stretch modes of three distinct vacancy-hydrogen complexes. The properties of H-related defects are very similar in Ge : H and Si : H. In contrast, no LVMs are observed in 6H-SiC : H, indicating that H behaves differently in this material.
机译:用红外光谱研究了质子注入的晶体Ge和6H-SiC中与氢有关的缺陷。 Ge:H在1979.5、1992.6、2014.9、2024.8和2061.5 cm〜(-1)处的吸收线被确定为三种不同的空位-氢配合物的Ge-H拉伸模式。 H相关缺陷的性质在Ge:H和Si:H中非常相似。相反,在6H-SiC:H中未观察到LVM,这表明H在这种材料中的行为不同。

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