机译:沉积参数在通过等离子体增强化学气相沉积技术生产的薄膜均匀性中的作用
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机译:等离子体增强化学气相沉积法制备厚度不均匀的非晶Ge {sub} xSe {sub} 1-x薄膜的光学常数
机译:使用镍催化剂的等离子体增强化学气相沉积和热丝等离子体增强化学气相沉积无转移石墨烯的生长
机译:通过低压化学气相沉积生产的多晶硅膜,用于微型开关应用;依赖于沉积条件,掺杂类型和热处理的应力
机译:火焰辅助化学气相沉积制备铝载二氧化钛薄膜的光催化性能评估
机译:用于进一步缩小超大型集成器件-Cu互连的等离子增强化学气相沉积SiCH膜的低k覆盖层的材料设计
机译:等离子体增强化学气相沉积和无定形硫属化物薄膜的结构表征
机译:用新型mOCVD(金属有机化学气相沉积)技术制备用于光电转换的薄膜:年度分包报告,1985年2月15日至1985年4月15日