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机译:正电子ni没技术研究AlSi11.35Mg0.23的俘获率和缺陷密度
defect concentration (defect density); trapping rate; trapping cross-section; AlSiMg alloy; Positron Annihilation Lifetime Technique; TEMPERATURE DEPENDENCE; LIFETIME; METALS; MIGRATION; COPPER;
机译:正电子ni没技术研究AlSi11.35Mg0.23的俘获率和缺陷密度
机译:通过时间分辨光致发光和慢正电子an灭技术研究的ZnO外延层中光致发光寿命和缺陷密度的直接比较
机译:在氢化物气相外延生长的低缺陷密度极性和非极性独立式GaN衬底上的时间分辨光致发光,正电子ni灭和Al0.23Ga0.77N / GaN异质结构生长研究
机译:通过时间分辨的光致发光和慢正电子湮灭技术研究了光致发光寿命和缺陷密度的直接比较
机译:利用正电子an没诱导的螺旋电子能谱研究正电子在铁表面的量子点状铜颗粒上的俘获。
机译:溶液中的大分子构象。用正电子an没技术研究碳酸酐酶。
机译:湮灭在金属和合金中捕获空位型缺陷时的正向血管密度
机译:金属和合金空位型缺陷中正电子的湮灭动量密度