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机译:Ar / H-2 / C2H2等离子体中碳薄膜中纳米颗粒的低压PECVD:膜的合成和电子能量分布函数的分析
carbon nanoparticles; C2H2; OES; plasma EEDF; RF-CVD; DIAMOND-LIKE CARBON; C2H2 (1-PERCENT)/H-2/AR-RICH PLASMAS; DUST PARTICLE FORMATION; RF PLASMA; IONIZED PLASMAS; DEPOSITION; HYDROGEN; GROWTH; DISCHARGES; FREQUENCY;
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机译:压力和功率对C-2,C2H,C2H2,CH3和CH4的非平衡等离子体化学的影响影响从富含C2H2(1%)/ H-2 / Ar的等离子体合成纳米金刚石薄膜
机译:激发频率对金刚石膜沉积CH4 / H / H-2等离子体的影响:电子能量分布函数和原子氢浓度
机译:由Ar / H2 / C2H2等离子体合成碳纳米颗粒:薄膜性质和电子能量分布函数的分析
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机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:在添加氢的碳氟化合物(CF4 / Ar / H-2和C4F8 / Ar / H-2)等离子体中在Si上选择性刻蚀高k HfO2膜