Femtosecond holographic interferometry for studies of semiconductor ablation using vanadium dioxide film

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Femtosecond holographic interferometry for studies of semiconductor ablation using vanadium dioxide film

机译：飞秒全息干涉术用于研究使用二氧化钒膜的半导体烧蚀

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A recording medium based on the phenomenon of phase transition from semiconductor to metal is applied to holography in the femtosecond time domain. The results of holographic interferometry studies of semiconductor ablation are presented.

机译：在飞秒时域中，将基于从半导体到金属的相变现象的记录介质应用于全息照相。介绍了半导体烧蚀的全息干涉测量结果。

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《Optics Letters》 |2003年第16期|共3页
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正文语种 eng
中图分类光学;
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