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机译:H +离子倾斜注入钨丝作掩模对850 nm垂直腔面发射激光器偏振控制的影响
VCSEL; ion implantation; polarization control; ASYMMETRIC CURRENT INJECTION; VCSELS;
机译:H +离子倾斜注入钨丝作掩模对850 nm垂直腔面发射激光器偏振控制的影响
机译:通过金属有机化学气相沉积在[311] B衬底上生长的偏振控制的850 nm波长垂直腔表面发射激光器
机译:850 nm的温度特性,腔内接触,浅植入物植入垂直腔表面发射激光器
机译:850-nm垂直腔表面发射激光器,由H +倾斜植入使用钨丝作为掩模制造
机译:通过取向不匹配的晶圆键合制造的长波长垂直腔表面发射激光器(VCSEL)的偏振控制。
机译:不同腔配置中锁模垂直外腔面发射激光器的时滞-微分方程建模
机译:圆偏振光注入的1310nm稀氮化物自旋垂直腔表面发射激光器中的发射偏振控制
机译:1.3微米波长垂直腔面发射激光器来加工方向不匹配的晶圆键合:一个展望偏振控制