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机译:离子沉积法合成“杂化” Ag_x〜0 Mno_2·H_2O金属氧化物纳米层
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机译:连续离子层沉积法在二氧化硅表面合成杂化型纳米羟基化合物(Sn_xO_yH_z)和杂多羟基化合物(H_xPW_yO_z)
机译:Fe〜(2+)和CrO_4〜(2-)离子吸附层的氧化还原反应及离子沉积法合成Fe〜(3 +)-Cr〜(3+)双氢氧化物纳米层
机译:通过溶液连续离子层沉积法合成金属氧化物,金属氢氧化物和金属过氧化物纳米组
机译:I.金属有机化学气相沉积前体的合成及其在氧化物薄膜沉积中的用途II。单体钽(IV)酰胺配合物的合成。
机译:通过金属氧化还原机理大规模合成杂化金属氧化物用于高性能伪电容器
机译:连续离子层沉积(Sild)作为一种新的传感器技术:金属氧化物的合成和改性