...
首页> 外文期刊>Metal Physics and Advanced Technologies >Electronographic Investigation of the Temperature Effect on the Phase Formation in Thin Double-Layer Ni/GaAs Films
【24h】

Electronographic Investigation of the Temperature Effect on the Phase Formation in Thin Double-Layer Ni/GaAs Films

机译:电子温度对双层Ni / GaAs薄膜中相形成的影响的电子学研究

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

The results of an electronographic investigation of the Ni-GaAs double-layer films phase composition depending on temperature at condensation of Ni at GaAs are presented. The structure and number of the phases being formed have been shown to depend both on thermal conditions at interaction of the Ni and GaAs layers and on the Ni to GaAs layer mass ratio: m_(Ni)/m_(GaAS )= (0.5; 1.2).
机译:给出了根据Ni在GaAs上的缩合温度对Ni-GaAs双层膜相组成进行电子照相研究的结果。已显示所形成的相的结构和数量既取决于Ni和GaAs层相互作用时的热条件,又取决于Ni与GaAs层的质量比:m_(Ni)/ m_(GaAS)=(0.5; 1.2 )。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号