...
机译:反应磁控溅射靶组分合成Cu1.5Zn1.15Sn0.85S4薄膜
机译:反应磁控溅射靶组分合成Cu1.5Zn1.15Sn0.85S4薄膜
机译:反应磁控溅射沉积法制备多组分(Al,Cr,Nb,Y,Zr)N薄膜,以提高硬度和耐腐蚀性
机译:N含量对多组分Al-Cr-NB-Y-Zr基于反应磁控溅射的结构和力学性能的影响
机译:溅射电流对由反应性DC磁控溅射由马赛克靶制备的TiCrn薄膜结构的影响
机译:反应性射频磁控溅射法合成铜铁矿薄膜及其表征
机译:反应磁控溅射法制备单相外延Cr2N薄膜及其表征
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射反应溅射ZrH2薄膜