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ET-AAS DETERMINATION OF TRACE ANALYTES IN HIGH PURITY BISMUTH AND TELLURIUM OXIDES

机译:ET-AAS法测定高纯铋和碲化物中的痕量分析物

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摘要

Optimal conditions for direct electrothermal atomic absorption (ET-AAS) determination of Al, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Mn, Ni, Pb, and V in high purity bismuth oxide and tellurium oxide are described. Matrix interference on the atomization of the analytes is studied. The analytical method developed in this paper permits determination of 0.005 mu g g(-1) Cd and Mn; 0.02-0.05 mu g g(-1) Al, Cu, Cr, and Fe; 0.1 mu g g(-1) Co, Ni, and Pb; 0.5 mu g g(-1) V with relative standard deviation 3-8%. (C) 1996 Academic Press, Inc. [References: 7]
机译:描述了直接电热原子吸收(ET-AAS)测定高纯度氧化铋和氧化碲中的Al,Cd,Co,Cr,Cu,Fe,Mn,Ni,Pb和V的最佳条件。研究了基质对分析物雾化的干扰。本文开发的分析方法可以测定0.005微克g(-1)的镉和锰。 0.02-0.05克g(-1)的Al,Cu,Cr和Fe; 0.1微克g(-1)的Co,Ni和Pb; 0.5微克g(-1)V,相对标准偏差为3-8%。 (C)1996 Academic Press,Inc. [参考:7]

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