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Electrical resistivity studies of chromium and nickel carbide infiltrated reaction sintered silicon carbide

机译:铬和碳化镍渗透反应烧结碳化硅的电阻率研究

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摘要

Reaction sintered silicon carbide with 5% nickelcat-bide 5% chromium carbide, 2.5% nickel carbide and 2.5%chromium carbide together were prepared. Electrical resistivity ofthese materials was determined from room temperature (RT) to1000℃. The resistivity decreases with increase in temperature.The variation in electrical resistivity from RT to 1000℃ was 0.75 to 0.030 ohm.cm for RSSC infiltrated with chromium carbidewhereas 0.208 to 0.193 ohm.cm with that of 2.5% chromiumcarbide and 2.5% nickel carbide together.
机译:制备了具有5%的碳化镍,5%的碳化铬,2.5%的碳化镍和2.5%的碳化铬的反应烧结的碳化硅。这些材料的电阻率是在室温(RT)至1000℃下测定的。电阻率随温度的升高而降低。渗入碳化铬的RSSC的电阻率从RT到1000℃的变化为0.75至0.030 ohm.cm,其中2.5%的碳化铬和2.5%的碳化镍的电阻率为0.208至0.193ohm.cm。

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