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机译:由于重物种的超低能量离子注入和快速热退火而导致的硅损伤研究
silicon damage; ion implantation; heavy ion species; rapid thermal annealing;
机译:由于重物种的超低能量离子注入和快速热退火而导致的硅损伤研究
机译:快速热退火对低能量铼离子植入硅基损伤的影响
机译:硅中低温BSi分子离子注入的快速热退火后的硼深度分布和残余损伤
机译:高温快速热退火后低剂量植入硅中残余损伤的热行为
机译:离子注入硅的热退火过程中的磷缺陷相互作用。
机译:碳化硅基体中硅纳米晶的快速热退火和结晶机理研究
机译:关于BF 2 + -implanted和快速热退火的结构缺陷的起源:无缺陷再生的条件
机译:具有sIpOs(半绝缘多晶硅)异质结发射极和离子注入快速热退火基区的高频硅双极晶体管