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机译:使用10 wt%氢氧化钾溶液通过电化学蚀刻制备多孔ZnO
Electrochemical; Etching; Photoluminescence; Scanning electron microscopy; X-ray diffraction; ZnO;
机译:使用10 wt%氢氧化钾溶液通过电化学蚀刻制备多孔ZnO
机译:通过用氢氟酸 - 甲醛溶液电化学蚀刻获得的多孔硅基质内的ZnO的原位生长
机译:通过用氢氟酸 - 甲醛溶液电化学蚀刻获得的多孔硅基质内部的ZnO的原位生长
机译:表面活性剂和醇添加剂对氢氧化钾水溶液蚀刻特性的影响
机译:使用硅的氢氧化钾各向异性刻蚀制造的场发射器件。
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机译:氢氧化铵制备多孔ZnO薄膜:刻蚀时间和氧化剂对表面形貌和表面粗糙度的影响
机译:蒸汽饱和氢氧化钾水溶液的体积性质从0 / sup 0 /至400 / sup 0 /和蒸汽饱和氢氧化钠水溶液0 / sup 0 /至350 / sup 0 /基于现有文献数据的回归