机译:金属蚀刻后湿法清洗工艺和氮氧化硅膜对电荷诱导钨通孔腐蚀的影响的研究
Silicon oxynitride; Tungsten via; Charge-induced corrosion; End point;
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机译:氧化硅和氮氧化硅中的蚀刻离子迹线作为新型电子结构的电荷注入或提取通道
机译:高宽高比过孔中FIB蚀刻和钨沉积引起的损伤的特征
机译:介电膜和金属腐蚀后湿处理对钨导通孔电荷诱导腐蚀的影响
机译:表征氢蚀刻和/或清洁的氢-6-碳化硅(0001)表面上氮化铝和氮化镓薄膜的生长。
机译:低温阳极氧化硅薄膜的生长和腐蚀速率研究
机译:等离子体增强原子层沉积氮化硅中氢氟酸膜密度与湿蚀刻速率的关系
机译:化学敏感场效应晶体管的波动现象研究。第2部分。氮氧化硅的腐蚀