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机译:面向靶型系统中通过脉冲DC反应溅射在不同脉冲宽度下制备的纳米结构CrAIN膜
CrAIN; pulse width; nanoindentation; transmission electron microscopy (TEM); facing target type sputtering (FTS); pulsed magnetron sputtering;
机译:面向靶型系统中通过脉冲DC反应溅射在不同脉冲宽度下制备的纳米结构CrAIN膜
机译:在面对靶溅射(FTS)系统中通过直流反应溅射制备的TiN薄膜的电学和比色性能
机译:反应性脉冲直流磁控溅射制备纳米CrN薄膜
机译:直流,脉冲和高电离脉冲功率磁控溅射制备反应溅射二氧化钛薄膜的研究
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:在面向目标系统的脉冲DC反应溅射下在不同脉冲宽度下制备的纳米结构克拉达仑膜