机译:溅射沉积(111),(100)和随机纹理的Pb(Zr_xTi_(1-x))O_3(PZT)薄膜的压电和介电性能
PZT; thin films; magnetron sputtering; electrode; texture; composition; properties;
机译:溅射沉积(111),(100)和随机纹理的Pb(Zr_xTi_(1-x))O_3(PZT)薄膜的压电和介电性能
机译:高度(100)的(Pb_(1-x)La_x)Ti_(1-x / 4)O_3 / Pb(Zr_(0.20)Ti_(0.80))O_3 /(Pb_(1-x)La_x)Ti_(1 -x / 4)O_3射频磁控溅射多层薄膜
机译:PbO_x缓冲层对射频磁控溅射制备Pb(Zr_xTi_(1-x))O_3薄膜性能的影响
机译:溅射PB(Zr {Sub} X,Ti {Sub}(1-x)O {Sub} 3薄膜压电介电性质的取向和组成依赖性
机译:溅射沉积外延(1-x)Pb(Mg1 / 3Nb2 / 3)O3-- xPbTiO3薄膜的结构性质关系。
机译:pZT复合厚膜的介电和压电性能与可变解决粉比率
机译:Si衬底上溅射PZT薄膜的介电,铁电和压电特性:膜厚和取向的影响