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Templates for LaAlO_3 epitaxy on silicon

机译:硅上LaAlO_3外延的模板

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摘要

As direct epitaxy of crystalline LaAlO_3 on silicon has not been realized yet, we investigated the use of a template between the high-κ and the substrate. We performed calculations in the Density Functional Theory framework for two possible templates: a Sr_(0.5)O mono-layer and a 0.5 nm thick γ-Al_2O_3(001) layer. We firstly found that in the Sr_(0.5)O monolayer case, care must be taken for the LaAlO_3 starting sequence in order to expect good band offsets with silicon. In the γ-Al_2O_3 case, a more complex engineering of the interface is needed. Nonetheless, we found stable interfaces and a surface reconstruction in agreement with experimental observations. Moreover, these interfaces exhibit insulating properties and insight calculations for a Si-γ-Al_2O_3-LaAlO_3 superstructure lead us to a 1.9 eV conduction band offset.
机译:由于晶体LaAlO_3在硅上的直接外延尚未实现,我们研究了在高κ和衬底之间使用模板的方法。我们在密度泛函理论框架中对两种可能的模板进行了计算:Sr_(0.5)O单层和0.5 nm厚的γ-Al_2O_3(001)层。我们首先发现,在Sr_(0.5)O单层情况下,必须注意LaAlO_3起始序列,以便期望与硅有良好的能带偏移。在γ Al_2O_3的情况下,需要对接口进行更复杂的工程设计。尽管如此,我们还是发现了稳定的界面和表面重建,与实验观察结果一致。此外,这些界面还具有绝缘性能,对Si-γ-Al_2O_3-LaAlO_3上部结构的洞察计算得出了1.9 eV导带偏移。

著录项

  • 来源
    《Microelectronics and reliability》 |2007年第5期|709-713|共5页
  • 作者

    P. Boulenc; I. Devos;

  • 作者单位

    ST Microelectronics, 850 avenue Jean Monnet, F-38926 Crolles Cedex, France;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

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