机译:与CMP有关的低温下水与二氧化硅的相互作用
机译:与CMP有关的低温下水与二氧化硅的相互作用
机译:使用低相干干涉法同时原位测量二氧化硅等离子体刻蚀过程中的硅衬底温度和二氧化硅膜厚度
机译:大气压等离子体氧化硅在低温(150–400?C)下形成二氧化硅层
机译:硅和二氧化硅薄膜,在低温下沉积ICPCVD,对MEMS应用的高速率
机译:研究介电二氧化硅的化学机械抛光(CMP)过程中的界面相互作用。
机译:低于水冰点的温度下的聚乙烯(乙烯基甲基醚)水凝胶—分子相互作用和水状态
机译:丙酮,二氧化硫和水与1-辛基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐[OMIM] [BF4]的相互作用和稳定度在低温下
机译:二氧化硅(siO2)薄膜低温水扩散的核示踪剂测量。