...
机译:静态和动态应力作用下原子层沉积Hf(> 2薄膜)可靠性特征的区域依赖性
机译:静态和动态应力作用下原子层沉积Hf(> 2薄膜)可靠性特征的区域依赖性
机译:通过HF播种原子层沉积在MOS_2上形成的静脉静脉静脉,薄膜特性及其晶体管应用'[薄实心膜673(2019)112-118]
机译:原子层沉积HfO_2膜的沉积周期:对电性能和可靠性的影响
机译:静态和动态应力下原子层沉积HfO_2薄膜可靠性特征的区域依赖性
机译:使用介电常数化学和原子层沉积技术,在高介电常数薄膜和III-V化合物半导体之间形成界面。
机译:HtO2 / TiO2 / HfO2三层结构RRAM器件在原子层沉积制备的Pt和TiN涂层衬底上的双极电阻转换特性
机译:臭氧后沉积处理对界面和电学的影响 原子层沉积al2O3和HfO2薄膜在Gasb上的特性 基板