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ナノテク転用で微小、高集積光部品

机译:从纳米技术中转移出来的微观、高度集成的光学元件

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摘要

テクノロジーの進歩の方向が小サイズ化、高機能化、高集積化を向いていることはほぼ一般認識となっているようだ。 光コンポーネントもこの方向に沿って技術開発が進められている。 こうした時代のトレンドに、ナノテクを導入して流れを促進しようとしているのが輸入商社、伯東。 同社では、「ナノテク」というキーワードの下に微細加工を行う装置を揃え、積極的なマーケティングを行っている。 現状の扱い製品は、USのMolecularimprints社(MII)のナノインプリント装置、国内のサイバックス(SCIVAX)の加工装置、さらにドイツのライス(Raith)社のEB描画装置。
机译:人们似乎几乎普遍认识到,技术进步的方向是朝着更小、更复杂、更集成的方向发展。 光学元件的技术发展也在朝着这个方向推进。 为了应对这些时代的趋势,进口贸易公司Hakuto正试图通过引入纳米技术来促进这一趋势。 该公司拥有以“纳米技术”为关键词的微纳加工设备阵容,并正在积极营销。 目前,经销的产品有美国Molecularimprints(MII)的纳米压印设备、日本SCIVAX的加工设备、德国Raith的EB打印设备。

著录项

  • 来源
    《OPTCOM 》 |2004年第6期| 62-63| 共2页
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 日语
  • 中图分类 电工基础理论 ;
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