論文賞を受賞して

摘要

この度は日本表面真空学会論文賞という名誉ある賞をいただき，大変光栄に存じます。研究を支えてくださった皆様に心より感謝申し上げます。今回受賞の対象となつた論文は，私が共著者らと取り組んだ研究の一部を在学中にまとめたものになります。研究では，フォトリソグラフイによりSi（100）基板上に形成した矩形状3Dマイクロロッドについて，超高真空中で加熱清浄化後の表面構造を調査しました。手法には新たに開発したμ-RHEEDとSEMを組み合わせたシステムを用い，表面構造マッピングを行うことで位置依存性を研究しました。