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Estudio de la incorporacion de iones de Er y Nd en galio antimonio crecido por el metodo Bridgman

机译:布里奇曼法生长的镓锑中掺入Er和Nd离子的研究

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摘要

En este trabajo se ha realizado el estudio de cristales de GaSb crecidos por el metodo Bridgman y dopados con Er y Nd con distintas concentraciones. Se han realizado analisis de absorcion atomica pudiendose obtener el coeficiente de segregacion lectivo de ambos dopantes a lo largo de la direccion de crecimiento del material. Mediante medidas de efecto Hall se ha determinado el tipo de portadores mayoritarios (huecos) asi como los valores de la movilidad, la densidad de portadores y la resistividad para cada una de las concentraciones. Los analisis de dispersion de energias de rayos X (EDAX) y de microscopio electronico de barrido (SEM) han demostrado la presencia de agregados formados por los iones de tierras raras y Sb para las concentraciones de dopante mas altas. La reduccion de los defectos nativos tales como las vacantes de Ga y Ga en posicion de Sb por los iones de Er ha sido tambien demostrado a traves de analisis de catodoluminiscencia.
机译:在这项工作中,已经进行了通过Bridgman方法生长并掺杂有不同浓度的Er和Nd的GaSb晶体的研究。进行了原子吸收分析,能够沿材料的生长方向获得两种掺杂剂的教育偏析系数。通过霍尔效应测量,已经确定了每种浓度的多数载流子(空穴)的类型以及迁移率值,载流子密度和电阻率。 X射线能量色散(EDAX)和扫描电子显微镜(SEM)分析表明,对于最高的掺杂剂浓度,存在稀土离子和Sb形成的聚集体。通过阴极发光分析也证明了Er离子减少了天然缺陷,例如Sb位置的Ga和Ga空位。

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