机译:热光学效应介导的ZnO薄膜沉积在ITO涂层PET基板上的自聚焦机理和光学功率限制研究通过RF磁控溅射在连续波激光状态下溅射
Mangalore Univ Dept Phys Mangalagangothri 574199 India;
Mangalore Univ Dept Phys Mangalagangothri 574199 India;
Mangalore Univ Dept Ind Chem Mangalagangothri 574199 Karnataka India;
KLE Inst Technol Dept Engn Phys Hubballi 580027 Karnataka India;
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Mangalore Univ Dept Phys Mangalagangothri 574199 India;
(103) Wurtzite plane; Magnetron sputtering; Thermo-optic effects; Self focusing; Optical limiting;
机译:O-2外加剂和溅射压力对RF反应磁控溅射沉积在PET基板上ITO薄膜性能的影响
机译:膜厚和溅射功率对无氧RF磁控溅射沉积ITO薄膜性能的影响
机译:射频磁控溅射ITO /玻璃衬底上ZnO掺杂Zr_(0.8)Sn_(0.2)TiO_4薄膜的电学和光学性质
机译:ZnO掺杂Zr_0.8Sn_0的电学和光学性质。射频磁控溅射在ITO /玻璃基板上形成2TiO_4薄膜
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)