机译:用于蚀刻硬掩模的无定形碳薄膜的表面分析
Myong Ji Univ Dept Elect Engn Yongin 17058 South Korea;
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Myong Ji Univ Dept Elect Engn Yongin 17058 South Korea;
Myong Ji Univ Dept Elect Engn Yongin 17058 South Korea;
Amorphous Carbon Layer (ACL); Etch Hard Mask; Surface Chemistry; Hardness;
机译:由(C_6H_12)/ Ar / He化学沉积的非晶碳膜的制备和分析,用作半导体制造工艺中的干法蚀刻硬掩模
机译:反应粒子束辅助溅射工艺沉积用于硬掩模的非晶碳薄膜
机译:1-己烯和丙烯沉积的非晶碳层在半导体器件制造中干法刻蚀硬掩模的性能比较研究
机译:原位等离子体分析,通过等离子体增强化学气相沉积法沉积在Si上的氟化非晶碳和氢化非晶碳薄膜的氟掺入,热稳定性,应力和硬度比较
机译:等离子体沉积非晶硅薄膜的表面反应性,粗糙度和结晶度的原子分析。
机译:由非晶碳薄膜制造用于电子束成形的相位掩模
机译:偏压辅助热解 - CVD法制备非掺杂非晶碳薄膜的表面形貌和成分分析
机译:研究氢化无定形碳薄膜的化学,机械和表面性质