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机译:通过组合溶液燃烧合成和UV辐射来提高高κ纳米MULTILILAYER电介质和电子设备的电气性能
UNL FCT CENIMAT Dept Ciencia Mat i3N P-2829516 Caparica Portugal;
UNL FCT CENIMAT Dept Ciencia Mat i3N P-2829516 Caparica Portugal;
low temperature; nanomultilayer dielectric oxides (AlOx and HfOx); DUV irradiation; solution combustion synthesis; low operating voltage TFTs;
机译:通过组合溶液燃烧合成和UV辐射来提高高κ纳米MULTILILAYER电介质和电子设备的电气性能
机译:高性能SPC和MILC具有高kappa栅极电介质的p沟道LTPS-TFT的电气特性
机译:使用LaO高κ电介质的CNTFET中改善的器件性能
机译:CMOS和互连可靠性过程以及闪存中的电性能下降和性能提升的CMOS器件
机译:Cr2O3纳米粒子的溶液燃烧合成及其对11133-五氟丙烷脱氟化氢为1333-四氟丙烯的催化性能
机译:UV辐射和快速热退火过程引入溶胶 - 凝胶法衍生铁电Sr0.9bi2.1tA1.8NB0.2O9薄膜的结晶和电介质/电学性能
机译:电极污染的作用以及清洁和调节对高能脉冲功率器件性能的影响; IEEE电介质和电气绝缘材料特刊