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机译:使用等离子体增强原子层沉积均匀在MOS2上均匀生长MOS2
Duke Univ Dept Elect &
Comp Engn Durham NC 27708 USA;
Seattle Univ Dept Elect &
Comp Engn Seattle WA 98122 USA;
Duke Univ Dept Elect &
Comp Engn Durham NC 27708 USA;
IBM TJ Watson Res Ctr Yorktown Hts NY 10598 USA;
Duke Univ Dept Elect &
Comp Engn Durham NC 27708 USA;
ALD; PEALD; MoS2; ultrathin dielectric; nucleation; 2D crystals;
机译:使用等离子体增强原子层沉积均匀在MOS2上均匀生长MOS2
机译:通过化学气相沉积在高κB衬底上的原子上薄MOS2薄片的生长
机译:通过低温等离子体增强原子层沉积二氧化硅的介电阻挡层
机译:使用等离子体增强原子层沉积的聚醚砜基质上的AlO_XN_Y介电膜的低温沉积
机译:对2D晶体等离子体增强原子层沉积高κ电介质的影响及生长
机译:ReS2上的高κ介电层:Al2O3的原位热与等离子体增强的原子层沉积
机译:硫钝化锗上高κ电介质的原子层沉积