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机译:使用二丙基氨基硅烷和臭氧的SiO2薄膜低温原子层沉积
Hanyang Univ Div Mat Sci &
Engn 222 Wangsimni Ro Seoul 133791 South Korea;
Hanyang Univ Div Mat Sci &
Engn 222 Wangsimni Ro Seoul 133791 South Korea;
Chungnam Natl Univ Dept Chem 99 Daehak Ro Daejeon 34134 South Korea;
Hanyang Univ Div Elect Engn Ansan 15588 Gyeonggi Do South Korea;
Hanyang Univ Div Mat Sci &
Engn 222 Wangsimni Ro Seoul 133791 South Korea;
Silicon dioxide; Atomic layer deposition; Low temperature; DIPAS;
机译:使用二丙基氨基硅烷和臭氧的SiO2薄膜低温原子层沉积
机译:使用双钴六羰基叔丁基乙炔和臭氧的氧化钴薄膜的低温原子层沉积
机译:使用液态前体和臭氧氧化剂通过低温原子层沉积制备的氧化铟薄膜
机译:三氯乙烯(TCE)对硅油和臭氧气体生长的低温SiO2薄膜沉积速率和薄膜质量的影响
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:在纤维素纳米原纤维自立膜上构建的SiO2 / Al2O3多层结构的低温原子层沉积
机译:在低温下对晶体AlN,GaN和AlxGa1-xN薄膜进行空心阴极等离子体辅助原子层沉积
机译:二元和三元氧化物薄膜原子层外延低温沉积过程的研究