多様化するパターン計測技術ニーズに応えて：CD-SEMを用いた最先端電子線計測技術

摘要

CD-SEMを用いた電子線計測は、ウエーハ上の回路素子形成のための必須技術として幅広い用途に用いられている。本稿では、寸法制御、オーバレイや形状歪み、さらにエッジラフネスと計測·プロセス制御用途の最新電子線計測ソリューションを紹介する。