半導体シリコン表面を化学的にデザインする―化学的着想に基づくシリコンデバイス創出へ

摘要

シリコン－アルケン系は、ガラス－有機シラン系、金チオール系に次ぐ「第3の鎖」として注目を集めている。 大気中では不安定な水素終端化表面を炭化水素鎖で柊端することにより格段に安定な表面へと化学的に変性できる。筆者らは、この安定性が基板とのヘテロ界面単結合様式に帰することを実証し、さらに、機能性ナノ物質を基板表面上へ単層で固定化することにより、シリコン表面上での単分子デバイス素子創出への可能性を見いだした。