...
首页> 外文期刊>エアロゾル研究 >PECVDプロセスにおける生成ダスト微粒子のための小型レーザ光散乱モニタリング装置の開発
【24h】

PECVDプロセスにおける生成ダスト微粒子のための小型レーザ光散乱モニタリング装置の開発

机译:用于PECVD工艺中生产的粉尘细颗粒的小激光散射监测装置的研制

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

プラズマプロセッシング技術は,多種のプラズマやプラズマ発生技術の開発に伴い,液晶,太陽電池,半導体などの製造プロセスにおけるエッチングや薄膜堆積,スパッタリングなど多岐にわたって利用されており,工業·産業分野での重要性がますます高まってきている。 しかしながら,プラズマプロセスでは,プラズマ反応によって生成する活性種濃度が高くなると,気相中で均一核生成が起こり,微粒子が発生することが報告されている。
机译:等离子体处理技术用于蚀刻,薄膜沉积,溅射等在制造过程中,如液晶,太阳能电池,半导体和溅射,具有各种等离子体和等离子体生成技术,以及工业和工业领域的重要性。它正在增加越来越多。 然而,在等离子体过程中,如果通过等离子体反应产生的活性物质浓度增加,则在气相中发生均匀的成核,并且已经报道了产生细颗粒。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号