紫外線用耐熱光ファイバの開発(2)

摘要

最近，半導体製造プロセスにエキシマレーザなどの深紫外域(DUV: Deep Ultraviolet radiation)光が利用され始めてぃる。 従来の紫外線用光ファイバは，DUV光を導光させるとコアガラスに欠陥が生成し，透過光量が大きく低下するため，実用上の問題があった。 当社では，被覆材にアルミニウムを使用したシリカガラスコア光ファイバへの水素ドープ技術を開発し，高温でも長期間DUV光の透過光量が低下しなぃ新しぃ紫外線用耐熱光ファイバを開発した。 本報では，光ファイバの紫外線による透過光量低下メカニズム，水素による耐紫外線特性向上メカニズムと，今回開発した光ファイバへの熱処理の効果を述べる。