半導体製造ラインのIPA除去装置を開発-東芝等

摘要

東芝と大日本スクリーン製造は、半導体製造ラインの工程で、ウニーハ洗浄装置から揮発により大気中に放出されるIPA（イソプロピルアルコール）を約75％除去する装置を共同開発した。 同装置は東芝の四日市工場、大分工場に2009年度導入、引き続き順次各工場で採用を予定している。