プラズマCVDを用いたステップカバレッジに優れたシリコン酸化膜作製

摘要

以上のように今回，低温でカバレッジ性の優れたシリコン酸化絶縁膜の成膜技術を紹介した。 この威厳技術は今後更にモバイル情報端末の小型化や高機能化にともなう高密度実装に対して必要不可欠な技術である。 また，多様な用途や要求のあるMEMSにおいても立体構造物へのカバレッジ性の向上や，梁や自立膜などの膜応力制御が必要な工程の改善に応用できる技術と考えている。 このカソードカップリングCVD装置は量産装置としての多くの実績があり，更に今後の三次元実装やMEMSの発展に寄与できるものと考えている。