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リード/ライト同時ディスターブ·アクセスに対して安定なSRAMセル設計手法

机译:稳定的SRAM单元设计的方法来读/写同步干扰访问

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摘要

2ポートSRAMメモリセルは、リード/ライト同時ディスタープ?アクセスにおいても、メモリセルの動作マージンを保つ必要がある。 しかしながら、従来の1ポート·メモリセルを対象とした、動作マージン改善手法では、同一カラムにおいて、リード/ライト同時ディスターブ·アクセスが生じた場合、リードセルのセル電流劣化が生じる恐れがある。 我々は、2ポートSRAMのりいド/ライト同時アクセス時においても、セル電流劣イヒやセルサイズ増大が生じない、セル端子バイアス制御方法を、65nmCMOS  8トランジスタ(Tr)2ポート·メモリセル回路に適用した。 その結果、リード、及びライトマージンがV_(dd)=0.9V時に、従来手法と比べて45%、及び70%改善することを確認した。 このセルバイアス制御方法を用いることにより、セルサイズは20%低減することが可能である。 さらに、メモリセルサイズを縮小するために、同制御方法を7Trメモリセルに適用し、セルサイズを従来比31%縮小した事例を報告する。
机译:2端口SRAM存储器单元也需要维护存储器单元操作边距,即使在读/写同时蒸馏器访问中也是如此。然而,在传统的单端口存储器单元的操作边缘改进方法中,当在同一列中发生读/写同时干扰接入时,可能发生引线小区的电池电流劣化。我们还将电池电流充气控制方法应用于65nm CMOS 8晶体管(TR)2端口存储器单元电路,即使在2端口SRAM舔/写同时访问。底部。结果,与在V_(DD)= 0.9V的常规方法相比,铅和光裕度得到了45%和70%。通过使用这种细胞偏置控制方法,可以减少电池尺寸20%。此外,为了降低存储器单元尺寸,控制方法应用于7动力存储器单元,与传统情况相比,电池尺寸减少了31%。

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