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SOTBプロセスによるIoT向け低消費電力混載SRAMの開発

机译:SOTB过程的低功耗嵌入式SRAM的开发

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摘要

65nm SOTBプロセスを用いて混載SRAMを開発した.基板バイアスを制御することで,スリープモード時に13.72nW/Mbitという超低電力を達成し,高速モードにおいては1.84nsのアクセスタイムを得た.またSRAMのワード線パルス幅の局所最適化制御を用いることで20%程度の読み出し電力削減を得た.
机译:使用65 nm SOTB工艺开发混合SRAM。 通过控制衬底偏压,它在睡眠模式下实现了超低功率为13.72 nW / Mbit,并在高速模式下获得1.84ns的访问时间。 此外,我们通过使用SRAM字线脉冲宽度的局部优化控制获得约20%的读取功率降低。

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