机译:CVD金刚石薄膜的合成
机译:在较低的基板温度下使用CH4 + CO2 + H-2气体混合物通过DC等离子体CVD合成硼掺杂的金刚石薄膜,并形成n-Si / p金刚石异质结
机译:在低衬底温度下{100}取向的CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第一部分,Joe-Badgwell-Hauge模型下的CVD金刚石膜生长的模拟
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机译:RFPECVD法在不锈钢上制备类金刚石碳膜的合成及摩擦学性能
机译:微波等离子体CVD系统合成薄而厚的超纳米金刚石薄膜。
机译:新型金刚石薄膜合成策略:无氢的微波等离子体CVD法制备甲醇和氩气氛
机译:CVD钻石电影的新方面。压力传感器。 P型CVD金刚石薄膜的压阻性能。
机译:CVD-金刚石和类金刚石碳薄膜的sTm和aFm