リソグラフィ用ArFエキシマレーザー光源およびEUV光源の開発の現状

摘要

本稿では、リソグラフィに本格応用されているArFエキシマレーザについて述べた。 現在、世界の半導体工場の主力露光技術は液浸リソグラフィに移行し、本格的量産がまさに始まっている。 高い稼動実績(Availability＞99.6％)がェンドユーザーから高く評価されギガフォトン社のArFレーザーGT40A/60A/61Aは、急速に各国の主要ユーザに受け入れられ、すでに100台以上の出荷実績を有するようになった。 また2008年第1四半期でギガフォトン社製のエキシマレーザーは世界市場の50％を超える台数の出荷を達成した(Fig.16)。 今後、EUV露光技術に移行するまでの二重露光技術においても活躍が期待されている。