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ArF准分子激光光刻的研究现状

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193nm ArF准分子激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点.作者从193nm激光光刻的光学系统设计、光学材料、光源、光致抗蚀剂及器件应用等方面综述了深紫外激光光学光刻技术的近期发展及应用.

著录项

来源
《激光技术》|1999年第5期|288-291|共4页
作者
宋登元;
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作者单位

河北大学电子工程学院,保定,071002;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光电子技术、激光技术;
关键词
光刻; 准分子激光; VLSI;

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