ФОРМИРОВАНИЕ МЕТОДОМ ПЛАЗМЕННО-ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ОКСИДИРОВАНИЯ Ta-СОДЕРЖАЩИХ ОКСИДНЫХ ПОКРЫТИЙ НА ТИТАНЕ, ИХ СОСТАВ И СТРОЕНИЕ

摘要

В водном электролите с NH_4[TaF_6] в течение 2 мин сформированы покрытия толщиной от 2 до 18 мкм, содержащие до 20 ат. % тантала и кристаллическую фазу Ta_2O_5. Покрытия пронизаны порами размерами от 0.5 до 2 мкм. Количество пор в покрытиях может быть уменьшено путем дополнительного нанесения на поверхность Та-содержащей пасты. Краевой угол смачивания покрытий дистиллированной водой составляет величину 68-85 градусов. Подход перспективен для нанесения на титановые им-плантаты и стенты Та-содержащих покрытий с целью повышения коррозионной стойкости, химической инертности и биосовместимости.