首页> 外文期刊>Физика и техника полупроводников >Токовый шум и падение эффективности светодиодов при туннелировании носителей из квантовой ямы InGaN/GaN с участием дефектов
【24h】

Токовый шум и падение эффективности светодиодов при туннелировании носителей из квантовой ямы InGaN/GaN с участием дефектов

机译:电流噪声和下降的发光二极管在载流子从量子阱的InGaN / GAN涉及的缺陷的隧穿效率

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Проведены измерения токовых зависимостей спектральной плотности токового шума и квантовой эффективности в зеленых и синих светодиодах с квантовыми ямами InGaN/GaN. Показано, что уровень шума сильно растет в области больших токов, при которых наблюдается падение квантовой эффективности. Механизм формирования токового шума связывается с прыжковым транспортом по состояниям центров окраски в GaN через n-барьер квантовой ямы InGaN/GaN. Источником шума является прыжковое сопротивление области пространственного заряда, ограничивающее ток термоактивированных электронов в квантовую яму. Падение эффективности и рост уровня шума связываются с изменением направления электрического поля вблизи квантовой ямы при высоких уровнях инжекции и увеличением туннельной утечки дырок из квантовой ямы. Показано, что экспериментальные частотные спектры токового шума, имеющие при рабочих токах вид лоренцевского спектра, связаны с частотой перескока между глубокими центрами вблизи квантовой ямы InGaN/GaN и максвелловской релаксацией в область пространственного заряда.
机译:进行了用IngaN / GaN量子阱的绿色和蓝色LED中电流噪声光谱密度的电流求解的电流依赖性的测量。结果表明,噪声水平在大电流区域中产生强烈,在该区域的区域下,观察到量子效率的下降。用于形成电流噪声的机制与根据GaN中的颜色中心的状态通过InGaN / GaN量子卡纸的N-屏障的跳跃车辆相关联。噪声源是空间电荷区域的跳跃电阻,其将热敏电子的电流限制在量子坑中。有效性下降和噪声生长与高喷射水平的量子坑附近的电场方向的变化相关,以及来自量子坑的孔的隧道泄漏的增加。结果表明,具有在工作电流的电流噪声的实验频谱,Lorentsevsky谱的类型与IngaN / GaN量子果酱附近的深中心之间的跳跃频率相关联,并且在空间充电区域中的麦克斯韦尔弛豫。

著录项

  • 来源
  • 作者单位

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук 194021 Санкт-Петербург Россия;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类 半导体物理学;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号