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SPTヘッドの磁界強度に与える軟磁性下地膜厚と飽和磁化の影響

机译:软磁底层厚度和饱和磁化对SPT头磁场强度的影响

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摘要

マイクロマグネティツクモデルをベースとした単磁極(Single-Pole-Type:SPT)ヘッドシミュレータの静磁界計算部において高速フーリエ変換(Fast Fourier Transform:FFT)を適応し.従来の計算速度より約60倍高速化した.その結果,SPTヘッドの動的な記録計算と計算領域を10nmの立方体で離散化したLLG(Landau-Lifshitz-Gilbert)方程式の計算を可能とした,さらに,コイル電流磁界による励磁モデルを導入した.本報告では,このシミュレータを用いて二層膜媒体の軟磁性下地膜厚(Soft Under Layer:SUL)と飽和磁化及び中間層厚が磁界強度に与える影響について検討したものである。 本研究により,軟磁性下地膜厚20~100nm,及び飽和磁化1.0~1.8Wb/m2の範囲であれば記録磁界強度はこれらのパラメータに強く依存せず,安定した強度が得られることが分かった.
机译:微型胶质型:单极型:SPT(SPT)头模拟器账户快速傅里叶变换:FFT。比传统计算速度高约60倍。结果,SPT头和计算区域的动态记录计算能够计算具有10nm的立方体的Landau-Lifshitz-Gilbert方程,并且还引入了具有线圈电流磁场的激励模型。在本报告中,在磁场强度上检查软底层(SUL)和饱和磁化强度的影响和使用该模拟器的双层胶片介质的中间厚度。根据这项研究,记录磁场强度强烈取决于这些参数,并且可以在没有强烈取决于这些参数的情况下获得稳定的强度您得到它。

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