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【24h】

SPTヘッドの磁界強度に与える軟磁性下地膜厚と飽和磁化の影響

机译:软磁衬底膜厚度和饱和磁化强度对SPT磁头磁场强度的影响

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摘要

マイクロマグネティックモデルをベースとした単磁極(Single-Pole-Type: SPT)ヘッドシミュレータの静磁界計算部において高速フーリエ変換(Fast Fourier Transform: FFT)を適応し,従来の計算速度より約60倍高速化した.その結果,SPTヘッドの動的な記録計算と計算領域を10nmの立方体で離散化したLLG (Landau-Lifshitz-Gilbert)方程式の計算を可能とした.さらに,コイル電流磁界による励磁モデルを導入した.本報告では,このシミュレータを用いて二層膜媒体の軟磁性下地膜厚(Soft Under Layer: SUL)と飽和磁化,及び中間層厚が磁界強度に与える影響について検討したものである.本研究により,軟磁性下地膜厚20~100nm,及び飽和磁化1.0~1.8gWb/m{sup}2の範囲であれば記録磁界強度はこれらのパラメータに強く依存せず,安定した強度が得られることが分かった.
机译:快速傅立叶变换(FFT)用于基于微磁模型的单极型(SPT)磁头模拟器的静磁场计算部分,该速度比传统计算速度快60倍。做到了。结果,可以执行SPT头的动态记录计算和LLG(Landau-Lifshitz-Gilbert)方程的计算,其中计算区域被10 nm的立方离散。此外,我们介绍了使用线圈电流磁场的激励模型。在此报告中,我们使用此模拟器研究了软底层(SUL),饱和磁化强度和两层膜介质的中间层厚度对磁场强度的影响。根据这项研究,记录的磁场强度并不严格取决于这些参数,并且如果软磁性基板的厚度在20至100 nm的范围内并且饱和磁化强度在1.0至1.8 gWb / m的范围内,则可以获得稳定的强度{sup} 2。结果是。

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