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希土類-遷移金属薄膜を利用した垂直Hall-MRAM素子の提案

机译:使用稀土化金属薄膜的垂直霍拉姆装置的提议

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摘要

異常Ha11効果を利用した高密度MRAMである垂直Hall-MRAM(PH-MRAM)素子を提案する.希土類.遷移金属(RE-TM)であるDyx(Fe_(90)Co_(10))_(1-x)薄膜が高い異常Hall係数を持つことが分かり,このPH-MRAMに応用できると考えられる。また,書き込み時の消費電力低減技術として磁気弾性効果の利用を提案する。Dy_x(Fe_(90)Co_(10))_(1-x)薄膜に等方的な機械的伸張応力を加えた結果,垂直磁気異方性エネルギー変化によるものと思われる保磁力の変化が見られ,繰返し応力の有無の状態で可逆的な磁気特性の変化が確認された。 これらのことからDy_x(Fe_(90)Co_(10))_(1-x)膜は高密度垂直磁化膜を有する低消費電力ホールメモリ素子の期待できる候補であると思われる.
机译:我们提出了一种使用异常HA11效果的高密度MRAM的垂直霍拉姆(PH-MRAM)装置。 稀土。 过渡金属(RE-TM)DYX(FE_(90)CO_(10))_(1-X)具有高异常霍尔系数,并且认为它可以应用于该pH-MRAM。 此外,我们提出在写作时使用磁性效应作为功耗降低技术。 作为向Dy_x(Fe_(90)CO_(10))_(1-x)薄膜添加各向同性机械拉伸应力,认为矫顽力的变化是由于可逆垂直磁各向异性能量变化的变化在存在或不存在重复应激的情况下确认磁性。 根据这些事实,Dy_x(Fe_(90)Co_(10))_(1-x)膜似乎是具有高密度垂直磁化膜的低功耗孔存储器件的候选候选者。

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