マイクロビーム細胞照射装置(SPICE)における陽子線描画を用いた照射精度評価

摘要

静電加速器棟タンデトロン加速器に設置されているマイクロビーム細胞照射装置「SPICE」は、34MeVの陽子線をビーム径約2|ìmに集東する能力を有し、毎分400～500個の細胞を照射することが可能である~(1-3))。ビームプロファイルは、固体飛跡検出プラスチック板CR-39（フクビ化学工業株式会社ハーツラスTD-1, 100μm thick）上に、粒子数を1～2000個に制御して、20μm間隔の格子状パターンを照射して確認している。マイクロビーム照射による細胞の低線量影響を解明する実験では、十分な統計aを得るために高速に大量の細胞を照射する能力が必須であり、現状のSPICEの照射精度と照射速度が充分であることを浮世絵などの絵を描くことで検証した。元となる画像データをグレースケール（8階調）にし、座標及び階調に応じた粒子数等を数値化したファイルを作成した上で、CR-39に対して陽子線照射を行った。