マイクロビームによる高アスペクト比微細加工

摘要

筆者らは、μm以下に集束したイオンビームを利用した、微細加工技術に関する研究を行っている。とりわけ、プロトン（H+、陽子）を利用した"ProtonBeam Writing"（プロトンビーム描画、以下PBWと略す）1)は、長深度かつ高アスペクト比を有する構造の加工性能が特徴である。