クラスターイオン、ナノ加工に活躍磁性薄膜や半導体、フォトニタス結晶材料で成果照射範囲を限定し、無損傷研磨や高品位薄膜を実現

摘要

数千個の原子や分子が塊となったクラスターイオンのビームを、磁性薄膜や半導体、フォトニクス結晶材料のナノメートルレベルの超微細加工に応用する研究開発の成果が出始めている。 イオンビームの照射範囲を材料表面の狭い領域や浅い部分に限定できるため、従来のビームでは難しかった無損傷研磨や高品位薄膜を実現できる。 日本発の研究成果をもとにしているだけに、企業が寄せる実用化への期待は大きい。