超並列電子線描画装置の開発

摘要

ナノクリスタルSi電子源を躯動用集積回路の上に100×100のアクティブマトリックス電子源として製作している．これから必要な形状で放出される電子線を用いてレジストを塗布したウエハ上に縮小投影露光するもので，電子的な収差補正などの機能を有する．これを用いてマスクレス描画用の高スループット超並列電子線描画装置を開発している．