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電子線励起超軟X線分光分析装置の開発

机译:电子束激发超软X射线光谱分析仪的研制

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摘要

電子線励起による汎用超軟x線分光器の試作に成功するとともに,それを用いてLi K,Si LならびにBe Kスペクトルの精密計測に成功した。 これにより,実験室規模で超軟X線を用いた微小領域の状態分析が可能なことを示すことができた。 超軟X線はその進入深さに応じて1~100nmの表面層,界面層,バルクの電子状態解析に応用が可能である。したがって,電子線励起あるいはX線励起の電子分光器と組み合わせることで,極表面層を含む非破壊三次元分析に途を拓くものと確信している。 現在、それに向けての計測系のさらなる構築を進めている。
机译:我们通过电子束激发成功地制作了通用超软X射线光谱仪的原型,并成功地使用它对Li K,Si L和Be K光谱进行了精确测量。这表明可以使用实验室规模的超软X射线分析微小区域的状态。根据穿透深度,可以将超软X射线应用于1至100 nm的表面层,界面层和块体的电子状态分析。因此,我们相信它将与电子束激发或X射线激发的电子光谱仪结合使用,为包括极性表面层在内的非破坏性三维分析开辟道路。目前,我们正在为此目的进一步构建测量系统。

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